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Talbot Lau 干渉計

1. X線回折格子の概要

LIGAプロセスを用い,周期が数µm,アスペクト比は最大>100を持つX線回折格子(吸収格子)を作成し提供しております。

(a) 回折格子とセットアップ例


周期2.4 µm,高さ100 µm,Au


非コヒーレント光使用時のセットアップ(X線管)

G0: 空間的コヒーレンスのために必要な線源格子 (Source grating)
G1: 位相格子 (Phase grating)
G2: 吸収格子 (振幅格子) (Absorption grating)


(b) レンズと回折格子によるX線顕微鏡の例

X線管,回折格子と屈折レンズを組み合わせた顕微鏡セットアップ例
X線集光レンズについてはこちらを御覧ください。

2. 標準構造の例

(a) 標準構造エリアと構造高

4インチのSiウェハ上に,回折格子を形成します。構造エリアのサイズは通常20 mm x 60 mmですが,直径70 mmと,これに含まれる50 mm x 50 mmまでは拡張可能です。

これ以上の大きさへの変更は,研究開発プロジェクトとして承ります。現在,直径100 mmのマスクを開発中です。

X線吸収体は電鋳で製造するため,様々な高さの金属構造を選択できます。高さと周期の組み合わせを御要望に応じて最適化したします。


回折格子の標準的な加工可能エリア

(b) 既存レイアウト例

既存のマスクレイアウトから,評価用の製品をお届け出来ます。
注意: 掲載しているレイアウトは抜粋です。また随時変更していますので,検討開始前に弊社まで御確認ください。
高さ100 μm200 μm200 μm4 μm
周期(metal + space)2.4 μm4.8 μm10 μm3.57 μm
材質AuAuAuNi

(c) 標準品の仕様

吸収体(Line)材質AuまたはNi (電鋳による),もしくは樹脂
基板Siウェハ(標準品: 500〜550 µm。開発品として200 µmや他の材質や厚さも応相談)
有効面積20 mm x 60 mm,50 mm x 50 mm,直径70 mm等
誤差Duty cycle +/-10%,高さ+/-10% (基板全体)
メタル線の最大長30〜45 μm等 (製造工程におけるレジスト安定化のため。アスペクト比による)

(d) 高アスペクト比の工夫(1) ブリッジ構造

電鋳による高アスペクト比の金属構造を支えるため,中途に樹脂よるブリッジの入った構造です(上記「(c) 標準品の仕様」の「メタル線の最大長」に対応)。

左図: ブリッジのある回折格子のSEM写真
右図: メタルラインの擬似不規則的な配置例

3. 研究開発

カールスルーエ技術研究所(KIT)・IMTでは,お客様の御要望を反映し,高アスペクト比や高精度の製品を研究開発しております。

(a) 高アスペクト比の工夫(2) ホール構造

これまでの吸収回折格子製造手法(ブリッジによる支え)の他に,更なる高さを実現しかつビジビリティ増加に成功した新手法を提案いたします。レジスト高がこれまでの2倍程度になると見込んでいます。



樹脂支持棒を形成するプロセス
(上)通常のX線照射,(中)斜めの照射,(下)不要部分の除去
レジスト高が上がると電鋳高もアップする



高アスペクト比の回折格子SEM写真
左模式図(下)の空間部分に電鋳して作製



(b) 湾曲構造回折格子 Bent gratings

線源-回折格子間距離の短いマイクロCTシステムで用いられるように,曲げた回折格子を開発しました。これにより吸収による損失の削減が見込まれます。
Si基板を曲げるこれまでの手法は最小50 cmの曲げ半径でした。
Ti膜に加工する方法を用いて,例えば100 µm厚の膜上に回折格子を製造した場合は,曲げ半径2.5 cmまで到達可能です。


曲げられたホルダに収められた回折格子


湾曲構造回折格子の拡大写真



(c) 2次元回折格子

1次元(線状)構造ではなく,2次元(網目状)とする開発も行っております。検出方法と解析方法の開発は,データ品質と位相再構築を飛躍的に改善されると考られています。


2次元の位相コントラストイメージング模式図


既存のマスクレイアウトから,評価用の製品をお届け出来ます。

4. FAQ よくある質問

(a) 製品提供と技術提携の段階

カールスルーエ技術研究所の回折格子の提供に当たっては,以下の流れを想定しております。
1. 既存レイアウト回折格子の作製と評価
2. レイアウトを変更(カスタマイズ品)の作製と評価
さらに,現状の技術で実施可能なサイズや高さを拡張・拡大を御希望の場合は
3. 研究開発の提携...へと移行いたします。

(b) 製造者について

【製造・開発】 カールスルーエ技術研究所(KIT)・IMT
【製造技術】 シンクロトロン放射光施設ANKAを利用した「LIGAプロセス」